食品機械

原位清洗 (Clean in Place，簡稱 CIP) 是指：不拆卸設(shè)備或元件，在密閉的條件下，用一定溫度和濃度的清洗液對食品加工設(shè)備即系統(tǒng)加以機械和化學(xué)作用， 洗凈設(shè)備及系統(tǒng)的表面并殺菌的方法。通常在我們批次生產(chǎn)加工運行后，或在生產(chǎn)產(chǎn)品配方轉(zhuǎn)換時進行。

原位清洗之所以備受關(guān)注，不僅僅因為它是保障食品安全和產(chǎn)品質(zhì)量的前提條件，更因為它對于設(shè)備的可用性和運營成本有著重要影響，它可以幫助生產(chǎn)商減少能源、水及清潔劑的消耗，從而提升整體績效。

Endress+Hauser 提供全方位衛(wèi)生型測量

解決方案

在線儀表實時監(jiān)測和控制各項工藝參數(shù)的同時，幫助用戶縮短清洗時間，降低能源和清洗液的使用量。其中為了確保 CIP 系統(tǒng)的最佳性能，必須精確測量回流管路和補給罐中清洗液的濃度，而通過電導(dǎo)率測量換算得到酸堿清洗液的濃度是最常見的在線測量方式。

 眾所周知，清洗液中的酸和堿（例如硝酸和氫氧化鈉）作為強電解質(zhì)，在水中的電導(dǎo)率受到介質(zhì)溫度的影響非常顯著，因此在線電導(dǎo)率儀都標配溫度補償功能，將介質(zhì)實際溫度下的電導(dǎo)率值補償?shù)玫絽⒖紲囟认碌碾妼?dǎo)率值，或者進一步換算到酸堿的實際濃度值。

這一補償換算過程看似簡單，但是大部分現(xiàn)場使用者們卻忽略了不同酸和堿之間補償系數(shù)和濃度換算公式的差異。

α - 溫度補償系數(shù)，%/K

T – 介質(zhì)過程溫度，℃

T0 – 參比溫度，℃，默認設(shè)定為 25℃

K(T) – 介質(zhì)過程溫度下實際電導(dǎo)率，ms/cm

K(T0) – 介質(zhì)參比溫度下補償后電導(dǎo)率，ms/cm

上式是電導(dǎo)率溫度補償系數(shù)的計算公式，不難看出當實際溫度和參比溫度的差值越大，實際電導(dǎo)率和溫度補償后電導(dǎo)率的差值也越大。這意味著如果沒有使用正確的溫度補償系數(shù)，那么會引入巨大的額外測量誤差，最終引起清洗劑的浪費和清洗成本的提高。讓我們以典型的 CIP 工藝參數(shù)做一個例子 ：

如果儀表在現(xiàn)場沒有針對酸液和堿液做出溫度補償系數(shù)的調(diào)整，那么儀表測量值最大將偏小 33%，也就意味著如果為了使儀表測量值達到工藝的要求，就會帶來最多 33% 的清洗劑的額外損耗。

根據(jù)清洗液的介質(zhì)成分設(shè)置合理的溫度補償系數(shù)以及濃度計算曲線的重要性不言而喻，但是第二個難題也接踵而至，如何同時滿足酸液和堿液不同溫度補償系數(shù)設(shè)置的需求呢？如何讓智能化儀表隨著工藝介質(zhì)的改變而切換其測量模式呢？

這就需要利用到 Endress+Hauser 電導(dǎo)率儀的量程切換功能（Measuring Range Switch，簡稱 MRS），電導(dǎo)率儀可以接受兩組來自上位機的數(shù)字信號，同時切換其測量模式，包括濃度曲線、溫度補償系數(shù)、電流輸出范圍等等，兩組數(shù)字信號意味著儀表具備四個測量狀態(tài)（00、01、10 和 11）。也就意味著我們可以根據(jù) CIP 的工藝過程通過上位機發(fā)送數(shù)字信號切換電導(dǎo)率儀分別測量酸清洗液、堿清洗液、RO 水沖等多個模式。保障每個模式下都能采用最合適的濃度曲線、溫度補償系數(shù)、電流輸出范圍，實現(xiàn)CIP 全過程高精度清洗液濃度測量。 

Endress+Hauser 作為食品與飲料行業(yè)在線測量的領(lǐng)軍者，了解嚴苛 CIP 應(yīng)用中面臨的挑戰(zhàn)，并提供全方位衛(wèi)生型測量解決方案。我們?yōu)橛脩籼峁┙?jīng)實踐驗證的流量、物位、壓力、溫度和水分析儀表，均遵循最嚴格的質(zhì)量標準制造，滿足食品與飲料行業(yè)的法規(guī)要求。我們豐富的行業(yè)和應(yīng)用知識，搭配我們的全系列產(chǎn)品，幫助您提高 CIP 效率，降低 CIP 工藝過程中的產(chǎn)品損耗和成本。